A Huawei új szabadalmat adott ki a cég chipfejlesztésének fokozására. A legújabb szabadalmi bejelentés az EUV litográfiai technológia alkalmazását mutatja be az integrált áramkörök és lapkakészletek gyártásának javítására.
Az EUV (Extreme UltraViolet) litográfia egy optikai technológia, amelyet elektronikus eszközök chipkészleteinek és áramköreinek előállítására használnak. Ez egy előnyben részesített technológia a 7 nm-es vagy annál fejlettebb gyártástechnológiával készült SoC-khez. Például a P40 Pro modellben megtalálható Kirin 990 5G is EUV technológiával készült.
Továbbá a litográfia főleg mikro-nanografikák átvitelét, feldolgozását és létrehozását végzi. Ezenkívül ellenőrzi a chipkészletben lévő összes elemet, és ellenőrzi a megfelelő méretet és az áramkörök egyéb részleteit.
